OLOA

Oloa Rest and Recovery Facial Mask

Soin apaisant à la Centella asiatica et à la niacinamide. Réduit la sensation de peau réactive et procure du confort.

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Détails

Ce masque Oloa est formulé pour occuper une place claire dans la routine : offrir à la peau une pause de soin plus intensive. La formule associe le centella asiatica, la niacinamide et l’acide hyaluronique pour réduire la sensation d’inconfort, les rougeurs visibles ou les réactions cutanées liées aux changements de routine, au climat ou au stress urbain. Dans une routine Yaksok, il s’inscrit dans une démarche less, but better : une étape ciblée, une texture concrète et un bénéfice facile à comprendre.

Mode d’emploi

Comment utiliser Rest and Recovery Facial Mask de Oloa ?

Voici le guide essentiel pour utiliser ce masque en tissu coréen à usage unique et garder votre peau hydratée et éclatante. Suivez ces étapes :

1. Après avoir nettoyé et tonifié votre visage: Assurez-vous que votre peau est propre et tonifiée avant d’appliquer le masque.
2. Application: Placez le masque sur votre visage en l’ajustant afin qu’il adhère parfaitement à votre peau.
3. Temps de pose: Laissez agir le masque pendant 10-20 minutes afin que votre peau absorbe tous les nutriments.
4. Retrait: Retirez délicatement le masque.
5. Massage et absorption: Massez délicatement l’essence restante sur votre peau jusqu’à son absorption complète.

Recommandation: Utilisez ce masque au moins une fois par semaine ou chaque fois que votre peau semble fatiguée et rugueuse. Pour une sensation encore plus rafraîchissante, placez-le au réfrigérateur avant de l’utiliser.

Conseil intensif: Pour une hydratation intense, utilisez-le pendant 4 jours consécutifs. Votre peau sera profondément hydratée et revitalisée.

INGRÉDIENTS

Ingrédients de Rest and Recovery Facial Mask de Oloa

Aqua (Water), Butylene Glycol, Glycérine, 1,2-Hexanediol, Niacinamide, Extrait d’Artemisia capillaris, Extrait de fruit d’Olea europaea (olivier), Triglycéride caprylique/caprique, Myristate de polyglycéryl-10, Copolymère réticulé d’acrylates d’acrylate d’alkyle en C10-30, Arginine, Bétaïne, Adénosine, Extrait de Centella asiatica, Huile de Lavandula angustifolia (lavande), Panthénol, Hyaluronate de sodium, Acétate de tocophéryle, Extrait de Phaeodactylum tricornutum, Caprylyl glycol, Lécithine hydrogénée, Phosphate de sodium, Madécassoside, Extrait de phytoplacenta de seigle hydrolysé, Extrait de culture de cellules de cals de Leontopodium alpinum, Huile de ricin hydrogénée PEG-40, PPG-26-Buteth-26, Tripeptide-1 de cuivre, Éthylhexylglycérine, sh-Oligopeptide-1

Rest and Recovery Facial Mask
Mascarilla de tejido coreana reparadora Oloa
Rest and Recovery Facial Mask
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