OLOA

Oloa Rest and Recovery Facial Mask

Cuidado calmante con Centella asiática y Niacinamida. Reduce la sensación de piel reactiva y aporta confort.

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Detalles

Esta mascarilla de Oloa está formulada para ocupar un lugar claro dentro de la rutina: dar a la piel una pausa de cuidado más intensiva. La fórmula combina Centella asiática, Niacinamida y Ácido hialurónico para reducir sensación de incomodidad, rojez visible o piel alterada por cambios de rutina, clima o estrés urbano. En una rutina Yaksok, funciona como una decisión less, but better: un paso con propósito, textura concreta y beneficio fácil de entender.

Modo de Uso

¿Cómo usar Rest and Recovery Facial Mask de Oloa?

Aquí tienes la guía esencial para usar esta mascarilla de tejido coreana de un solo uso y mantener tu piel hidratada y radiante. Sigue estos pasos:

1. Después de limpiar y tonificar tu rostro: Asegúrate de que tu piel esté limpia y tonificada antes de aplicar la mascarilla.
2. Aplicación: Coloca la mascarilla sobre tu rostro, ajustándola para que se adhiera perfectamente a tu piel.
3. Tiempo de espera: Deja actuar la mascarilla durante 10-20 minutos para que tu piel absorba todos los nutrientes.
4. Retirada: Retira suavemente la mascarilla.
5. Masaje y absorción: Masajea suavemente la esencia restante en tu piel hasta que se absorba por completo.

Recomendación: Usa esta mascarilla al menos una vez a la semana, o siempre que tu piel se sienta cansada y áspera. Para una experiencia extra refrescante, colócala en el refrigerador antes de usarla.

Tip Intensivo: Para una hidratación intensiva, úsala durante 4 días consecutivos. Tu piel se sentirá profundamente hidratada y revitalizada.

INGREDIENTES

Ingredientes de Rest and Recovery Facial Mask de Oloa

Aqua (Water), Butylene Glycol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Niacinamide, Artemisia Capillaris Extract, Olea Europaea (Olive) Fruit Extract, Caprylic/Capric Triglyceride, Polyglyceryl-10 Myristate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Arginine, Betaine, Adenosine, Centella Asiatica Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Oil, Panthenol, Sodium Hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Phaeodactylum Tricornutum Extract, Caprylyl Glycol, Hydrogenated Lecithin, Sodium Phosphate, Madecassoside, Hydrolyzed Rye Phytoplacenta Extract, Leontopodium Alpinum Callus Culture Extract, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, PPG-26-Buteth-26, Copper Tripeptide-1, Ethylhexylglycerin, sh-Oligopeptide-1

Rest and Recovery Facial Mask
Mascarilla de tejido coreana reparadora Oloa
Rest and Recovery Facial Mask
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