OLOA

Oloa Rest and Recovery Facial Mask 5EA

Mascarilla de tejido reparadora con EGF y Centella Asiática para piel estresada

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Detalles

La mascarrila facial Rest and Recovery de Oloa está formulada con una poderosa combinación de EGF y Fucoxantina, no solo equilibra el tono de la piel, sino que también ataca los signos visibles del envejecimiento. La Fucoxantina es potente antioxidante marino natural que se absorbe rápidamente, ofreciendo una protección efectiva contra los daños ambientales y los radicales libres, mientras que el EGF estimula la producción de colágeno y elastina para una piel visiblemente más firme.

Modo de Uso

¿Cómo usar Rest and Recovery Facial Mask 5EA de Oloa?

Aquí tienes la guía esencial para usar esta mascarilla de tejido coreana de un solo uso y mantener tu piel hidratada y radiante. Sigue estos pasos:

1. Después de limpiar y tonificar tu rostro: Asegúrate de que tu piel esté limpia y tonificada antes de aplicar la mascarilla.
2. Aplicación: Coloca la mascarilla sobre tu rostro, ajustándola para que se adhiera perfectamente a tu piel.
3. Tiempo de espera: Deja actuar la mascarilla durante 10-20 minutos para que tu piel absorba todos los nutrientes.
4. Retirada: Retira suavemente la mascarilla.
5. Masaje y absorción: Masajea suavemente la esencia restante en tu piel hasta que se absorba por completo.

Recomendación: Usa esta mascarilla al menos una vez a la semana, o siempre que tu piel se sienta cansada y áspera. Para una experiencia extra refrescante, colócala en el refrigerador antes de usarla.

Tip Intensivo: Para una hidratación intensiva, úsala durante 4 días consecutivos. Tu piel se sentirá profundamente hidratada y revitalizada.

INGREDIENTES

Ingredientes de Rest and Recovery Facial Mask 5EA de Oloa

EGF (Factor de Crecimiento Epidérmico): Estimula la producción de colágeno y elastina para una apariencia más firme de la piel.

Fucoxantina: Un antioxidante natural derivado del plancton marino que protege la piel de los radicales libres y otros factores ambientales dañinos.

Extracto de Centella Asiática: Calma la piel irritada, reduce la inflamación y promueve la cicatrización, protegiendo contra el daño de los radicales libres.

LISTA COMPLETA DE INGREDIENTES:

Aqua (Water), Butylene Glycol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Niacinamide, Artemisia Capillaris Extract, Olea Europaea (Olive) Fruit Extract, Caprylic/Capric Triglyceride, Polyglyceryl-10 Myristate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Arginine, Betaine, Adenosine, Centella Asiatica Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Oil, Panthenol, Sodium Hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Phaeodactylum Tricornutum Extract, Caprylyl Glycol, Hydrogenated Lecithin, Sodium Phosphate, Madecassoside, Hydrolyzed Rye Phytoplacenta Extract, Leontopodium Alpinum Callus Culture Extract, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, PPG-26-Buteth-26, Copper Tripeptide-1, Ethylhexylglycerin, sh-Oligopeptide-1

Rest and Recovery Facial Mask 5EA
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